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中国科学院金属研究所专利:一种Cr-O-N活性扩散阻挡层及制备方法
中国科学院金属研究所 专利 Cr-O-N 活性扩散 阻挡层
2023/12/26
使用不同种类催化剂(NaF, NH4F, NH4Cl, NaBr和NaCl)经1250 ℃保温8 h扩散共渗, 在新型Nb-Ti-Si-Cr基超高温合金表面制备了Si-Zr-Y共渗层, 分析了各共渗层的结构及相组成, 并对其组织形成过程进行了讨论. 结果表明: 不同种类催化剂制备的共渗层由外至内均由(Nb, X)Si2(X表示元素Ti, Cr和Hf)外层, (Ti, Nb)5Si4过渡层及富Al,...
Investigation of the life-time of drills covered with the anti-wear Cr(C,N) complex coatings, deposited by means of Arc-PVD technique
Cr(N,C) coatings Arc-PVD Drilling test
2009/12/14
Purpose: This research was done to study the tribological behavior of twist HS6-5-2 drills covered with Cr/CrN/CrN+Cr2N/Cr(C, N) and Cr/CrN/ Cr(C, N) coatings as well as to obtain detailed information...
Al2O3和Cr过渡层对Ag膜光学性质及其附着力的影响
Ag膜 Al2O3过渡层 Cr过渡层
2008/12/9
研究了在玻璃基底上镀制Al2O3和Cr过渡层对Ag膜反射率及附着力的影响.
分光光度计测试了Ag膜的反射率, 结果表明, 与Cr过渡层相比,
Al2O3过渡层对Ag膜反射率
的降低相对较小; 而且, 随着Al2O3厚度的增加, Ag膜的反射率先增大后
减小. XRD与AES测试表明, 引入Al2O3或Cr可明显细化Ag晶粒, 减弱Ag膜
(111)织构; Al2O3作过渡层时, Al原子...
界面散射对Ni80Co20/M(M-Co,Cr,Ag)多层膜各向异性磁电阻的影响
多层膜 各向异性磁电阻 界面效应
2008/10/20
用磁控溅射方法制备了Ni80Co20/M(M=Co,Cr,Ag)多层膜样品系列,Co,Cr,Ag杂质层的标称厚度为0.1 nm,研究了界面散射对多层膜的磁及输运性质的影响.零场电阻率ρ的测量结果表明,对含Cr样品,p随杂质层间距L的依赖关系能较好的用Fuchs-Sondheimer(F-S)理论描述.而对含Co和Ag样品,ρ随L的依赖关系在L小于15 nm时开始偏离F-S理论.磁电阻测量表明,含C...
纳米晶Cu-Cr合金涂层在不同氧分压下的氧化
纳米晶 Cu-Cr涂层 氧化
2008/10/13
溅射纳米晶Cu-Cr合金涂层在700-800℃纯氧和空气中氧化后均形成了单一的Cr2O3膜,但两种气氛下生成的Cr2O3膜的形貌及合金的氧化增重不同,这主要与气氛中的氧分压不同及纳米晶Cr2O3膜的生长机制有关.
期刊信息
篇名
A Study on Aluminide and Cr-Modified Coatings on TiAl Alloys by Pack Cementation Method
语种
英文
撰写或编译
作者
周春根,金奎泳
第一作者单位
刊物名称
Oxidation of Metals
页面
1999,Vol.2
出版日期
1999年
月
日
文章标识(ISSN)
相关项目
梯度碳化...