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离子束增强沉积Si-N膜
离子束增强沉积 Si-N膜
2010/3/30
用离子束增强沉积方法制备了Si-N薄膜，其中Si由一束Ar离子从Si靶上溅射下来，在溅射沉积的同时，以一束N离子轰击正在沉积的膜层，于是获得了Si-N膜。采用卢瑟福背散射、红外光谱和透射电镜对膜层的成分和结构进行了分析，结果表明：膜面平整，膜层为非晶或微晶结构，由Si和β-Si3N4组成。