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沉积温度对直流磁控溅射TiN薄膜结构和表面形貌的影响磁控溅射锆合金氮化钛沉积温度 2018/10/8

利用直流磁控溅射技术,在锆合金基体表面上研究不同基体温度对沉积TiN薄膜的影响.分别采用X射线衍射仪和扫描电子显微镜(SEM)对TiN薄膜结构、表面形貌和截面形貌进行了研究.研究结果表明:TiN薄膜在不同沉积温度下晶格取向是不同的;200 ℃时,TiN为随机取向;300 ℃时,TiN薄膜以(111)为择优取向;400 ℃时,薄膜晶化质量不断提高,最后逐渐趋于稳定.300 ℃时,薄膜的致密性与均匀性...