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“
沉积学 tin
”
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沉积温度对直流磁控溅射
TiN
薄膜结构和表面形貌的影响
磁控溅射
锆合金
氮化钛
沉积温度
2018/10/8
利用直流磁控溅射技术,在锆合金基体表面上研究不同基体温度对沉积
TiN
薄膜的影响.分别采用X射线衍射仪和扫描电子显微镜(SEM)对
TiN
薄膜结构、表面形貌和截面形貌进行了研究.研究结果表明:
TiN
薄膜在不同沉积温度下晶格取向是不同的;200 ℃时,
TiN
为随机取向;300 ℃时,
TiN
薄膜以(111)为择优取向;400 ℃时,薄膜晶化质量不断提高,最后逐渐趋于稳定.300 ℃时,薄膜的致密性与均匀性...
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