搜索结果: 1-15 共查到“化学 多孔硅”相关记录24条 . 查询时间(0.184 秒)
浙江大学化学系邬建敏课题组在多孔硅生物医学应用领域取得新进展(图)
组织再生工程 生物活性材料 多孔硅
2021/7/30
组织再生工程是21世纪生命科学的研究热点之一,对于患病和受损的人体组织采取高效的治疗方法仍然是全世界范围内的重要挑战。目前的组织工程支架在临床应用受限,移植成功率不高的一个重要原因是在诸如溃疡,冠心病和慢性伤口等身体缺陷中血管化水平不足,血管结构的缺乏导致移植早期不能及时建立血运,为受损部位提供必须的氧气和营养物质。传统的有机高分子支架由于在移植过程中不良的生物活性以及难降解性,迫切需要开发新的生...
铜包覆多孔硅基材料p-Si@Cu(x)的制备与性能
锂离子电池 多孔硅基材料 铜包覆
2019/1/30
在球形SiO2颗粒表面包覆适量的CuO,经还原得到铜包覆的多孔硅复合材料[p-Si@Cu(x)].利用X射线衍射、扫描电子显微镜、透射电子显微镜和比表面积分析等手段对样品的组成、物相结构、微观形貌和孔结构进行分析,并初步研究了材料的循环性能和倍率性能.结果表明,铜包覆量x=0.05时,在100 mA/g电流密度下,样品的首次放电容量为3596.9 mA·h/g,首次充电容量为2590.7 mA·h...
采用电化学腐蚀法在硅基片表面形成多孔硅, 利用直流对靶反应磁控溅射方法在不同电流密度条件下制备的多孔硅样品表面上溅射沉积了VOx薄膜, 获得了氧化钒/多孔硅/硅(VOx/PS/Si)结构. 采用场发射扫描电镜(FESEM)观测多孔硅及VOx/PS/Si结构的微观形貌, 采用纳米压痕仪器测量VOx/PS/Si结构的纳米力学特性, 通过电阻-功率曲线分析研究其温度敏感特性. 实验结果表明, 在40和8...
脉冲阳极氧化条件对多孔硅法布里-珀罗干涉特性影响
多孔硅 法布里-珀罗干涉 光学厚度 传感
2009/10/15
采用电化学脉冲阳极氧化法制备具有干涉效应的多孔硅. 研究电流密度、有效阳极氧化时间、电解液组成对多孔硅法布里-珀罗(F-P)干涉特性的影响, 利用光纤光谱仪测量多孔硅反射光谱并计算其光学厚度. 结果表明, 当阳极氧化电流密度78 mA•cm-2、有效阳极氧化时间5 min、氢氟酸与乙醇体积比VHF∶VEtOH=2∶1时, 制备的多孔硅法布里-珀罗干涉条纹均匀, 膜层性质稳定; 当与饱和...
多孔硅表面微纳仿生结构的制备及其超疏水性研究获新进展
多孔硅表面微纳仿生结构 制备 超疏水性
2009/9/2
基于多孔硅Bragg反射镜的光学免疫检测方法
多孔硅Bragg反射镜 光学检测 羟基红花黄色素A 反射光谱
2010/3/12
通过共价固定方法将羟基红花黄色素A(HSYA)抗血清蛋白固定到多孔硅Bragg反射镜的孔洞中, 定量分析了不同浓度的羟基红花黄色素A人工抗原与特异性抗羟A多克隆抗体反应后多孔硅Bragg反射镜的反射谱峰位的红移情况. 对比研究了固定阴性血清蛋白的多孔硅Bragg反射镜基底在加入抗原后的反射谱峰位变化情况, 结果表明, 基于多孔硅Bragg反射镜的光学免疫检测具有很好的特异性, 且同目前普遍使用的E...
锗/多孔硅和锗/氧化硅薄膜光致发光的比较研究
锗/多孔硅 锗/氧化硅 光致发光 红外吸收
2009/4/9
采用磁控溅射技术,以锗为溅射靶,在多孔硅上沉积锗薄膜,沉积时间分别为4,8和12 min,及以锗-二氧化硅复合靶为溅射靶,在n型硅衬底上沉积了含纳米锗颗粒的氧化硅薄膜,锗与总靶的面积比分别为5%,15%,30%。各样品在氮气氛中分别经过300,600及900 ℃退火30 min。对锗/多孔硅和锗/氧化硅薄膜进行了光致发光谱的对比研究,用红外吸收谱分析了锗/多孔硅的薄膜结构。实验结果显示,锗/多孔硅...
多孔硅的I-V特性及NO2气敏特性研究
多孔硅 孔隙率 I-V特性 NO2气敏特性
2014/5/7
采用双槽电化学腐蚀法在p+单晶硅表面制备多孔硅层,然后在多孔硅表面沉积形成Pt薄膜电极,制备出多孔硅气敏元件样品。利用SEM技术分析多孔硅的表面形貌,研究了腐蚀条件对多孔硅的孔隙率、横向I-V特性及低浓度NO2气敏特性的影响。结果表明,多孔硅的横向I-V特性表现出非整流的欧姆接触;多孔硅的孔隙率及其对低浓度NO2的灵敏度均随腐蚀电流密度的增大而增加。当腐蚀电流密度为90mA/cm2,腐蚀时间为30...
锂离子电池用多孔硅/石墨/碳复合负极材料的研究
多孔硅 负极材料 锂离子电池 高能球磨
2008/3/19
在两步高能球磨和酸蚀条件下制得了多孔硅/石墨复合材料,并对其进行碳包覆制成多孔硅/石墨/碳复合材料。通过TEM,SEM等测试手段研究了多孔硅材料的结构。作为锂离子电池负极材料,电化学测试结果表明多孔硅/石墨/碳复合材料相比纳米硅/石墨/碳复合材料有更好的循环稳定性。同时,改变复合体配比、热解碳前驱物、粘结剂种类和用量也会对材料的电化学性能产生较大的影响。其中使用质量分数为10%的LA132粘结剂的...
摘要 首次报道了用恒电位电解法将饵、钇共掺入多孔硅(porous silicons, PS) 中,经高温退火处理后,观察到了在近红外区(1.54 μm)室温下较强的光致发光 (photoluminescence, PL),并与掺饵多孔硅(erbium-doped porous silicon, PS:Er)做了比较,发现钇的共掺入对掺饵多孔硅体系1.54 μm发射起了增强作用 。研究了饵、钇共掺杂...
硅基底金纳米粒子微阵列电极的制备及其电化学性质的研究— 多孔硅电致发光 生物传感器研究的前期探索
纳米相材料 硅 微电极 电化学 电致发光 透射电子显微术 紫外分光光度法 扫描电子显微镜 粒径
2007/12/22
摘要 用Frens法制备了不同粒径的金纳米粒子,并用透射电镜、紫外可见分光光度法进行了表征。用自组装技术得到了金膜电极表面的金纳米粒子二维阵列电极,用扫描电镜、电化学等方法对该微阵列电极进行了表征。结果表明,当金电极表面被自组装膜完全覆盖后,电化学反应不再发生,而将金纳米粒子组装到膜上以膈,才得到电化学信号。我们认为,金纳米粒子在这里对电荷的跨膜转移有很强的促进作用。对于该过程的研究,用助于理解电...
金属离子在多孔硅表面和吸附与电镀过程中金属在多孔硅表面的淀积
硅 吸附 电镀
2007/12/22
摘要 刚制备的多孔硅与金属盐溶液接触会产生金属离子在多孔硅表面和吸附现象。实验显示这一现象只发生在新鲜的多孔硅表面, 而存放一月以后的样品不具备此性质。文中把这一现象归因于新鲜的多孔硅表面电子的富集, 溶液中金属离子从多孔硅表面获得电子而附着。多孔硅表面电镀金属过程中, 一定电压下电镀电流密度在起始阶段逐渐下降, 可以用一个指数关系式较好地描述, 在本文中有一个唯象模型予以解释。